不使用摩擦、藥物等物理處理方式，使用電子線、放射線、紫外線等高能量進行表面處理的一項技術。

紫外光表面清洗技術在國際上是隨著光電子信息產業的發展而提出來的。七十年代中期美國軍事電子技術和器件實驗室應用紫外光照射清洗石英晶片取得滿意的效果。但是，美國在較長的時間里紫外光表面清洗技術主要在軍事領域中進行研究性應用。直到九十年代初，日本和美國先后將UV光清洗機應用于民用光電子產品的工業生產過程，并開始向我國個別外資LCD企業在要求技術保密的情況下提供UV光清洗機。隨后，日本在發展紫外光表面清洗技術的同時，紫外光表面改質技術也得到了發展。

在二十世紀末，日本等先進工業國家紫外光表面清洗和改質技術由信息產業逐步擴展到金屬、塑料、橡膠等工業生產過程。二十世紀九十年代后期，我國的信息技術和產業以驚人的速度飛速發展，特別是平板顯示技術的高速發展，LCD顯示屏由TN級向STN和TFT不斷提升，新型的OLED顯示產品也開始進入市場。由此，對制備工藝過程表面質量要求越來越嚴格，紫外光表面清洗技術的優越性已經得到廣泛認可，UV光清洗機的需求量正在不斷增長。

 

VUV低壓紫外汞燈能同時發射波長254nm和 185nm的紫外光，這兩種 波長的光子能量可以直接打開和切斷有機物分子中的共價鍵，使有機物分子活化，分解成離子、游離態原子、受激分子等。與此同時，185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣（O2）分解成臭氧（O3）；而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧（O），這個光敏氧化反應過程是連續進行的，在這兩種短波紫外光的照射下，臭氧會不斷的生成和分解，活性氧原子就會不斷的生成，而且越來越多，由于活性氧原子（O）有強烈的氧化作用，與活化了的有機物（即碳氫化合物）分子發生氧化反應，生成揮發性氣體（如CO2，CO，H2O，NO等）逸出物體表面，從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機污染物。